我真不是科技巨星啊

如今陈耀杀入该领域，直接歼灭日国的半导体！

女记者飞快追问道：“目前国际最主流的光刻胶分辨率最高的就是193nm的arf，你公司有没有想过寻求更大的突破？”

陈耀回应她：“可以向大家透露一下，现在我公司已经研发出10nm以下的euv光刻胶，很快就能实现量产！”

今天的新闻科技版，又被陈耀占领了。

《民族工业的骄傲，成功研发全球分辨率最高光刻胶！》

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